Inscriere cercetatori

Site nou !

Daca nu va puteti recupera parola (sau aveti alte probleme), scrieti-ne la pagina de contact. Situl vechi se gaseste la adresa old.ad-astra.ro

Facebook

High-k Dielectrics and Metal Gates for Future Generation Memory Devices

Domenii publicaţii > Stiinte ingineresti + Tipuri publicaţii > Articol în revistã ştiinţificã

Autori: J.A. Kittl, K. Opsomer, Mihaela Popovici, N. Menou, B. Kaczer, X.P. Wang, C. Adelmann, M.A. Pawlak, K. Tomida, A. Rothschild, B. Govoreanu, R. Degraeve, M. Schaekers, M. Zahid, A. Delabie, J. Meersschaut, W. Polspoel, S. Clima, G. Pourtois, W. Kna

Editorial: Microelectronic Engineering, 86 (7-9), p.1789-1795 , 2009.

Rezumat:

Cuvinte cheie: high-k dielectrics, metal gates