Inscriere cercetatori

Site nou !

Daca nu va puteti recupera parola (sau aveti alte probleme), scrieti-ne la pagina de contact. Situl vechi se gaseste la adresa old.ad-astra.ro

Facebook

Performance improvement in narrow MuGFETs by gate work function and source/drain implant engineering

Domenii publicaţii > Stiinte ingineresti + Tipuri publicaţii > Articol în revistã ştiinţificã

Autori: I. Ferain, N. Collaert, M.J. H. Van Dal, B. J. Pawlak, B. O'Sullivan, L. Witters, R. Rooyackers, T. Conard, Mihaela Popovici, S. Van Elshocht, M. Kaiser, R.G.R. Weemaes, J. Swerts, M. Jurczak, R.J.P. Lander, K. De Meyer

Editorial: Solid-State Electronics, 53 (7) , p.760-766, 2009.

Rezumat:

Cuvinte cheie: metal gates