Inscriere cercetatori

Site nou !

Daca nu va puteti recupera parola (sau aveti alte probleme), scrieti-ne la pagina de contact. Situl vechi se gaseste la adresa old.ad-astra.ro

Facebook

Seed Layer and Multistack Approaches to Reduce Leakage in SrTiO3-Based Metal-Insulator-Metal Capacitors Using TiN Bottom Electrode

Domenii publicaţii > Fizica + Tipuri publicaţii > Articol în revistã ştiinţificã

Autori: N. Menou, Mihaela Popovici, K. Opsomer, B. Kaczer, M.A. Pawlak, C. Adelmann, A. Franquet, P. Favia, H. Bender, C. Detavernier, S. Van Elshocht, D.J. Wouters, S. Biesemans, J.A. Kittl

Editorial: Japanese Journal of Applied Physics, 49 (4) , p.04DD01, 2010.

Rezumat:

Cuvinte cheie: high-k dielectrics, metal-insulator-metal capacitors