Inscriere cercetatori

Site nou !

Daca nu va puteti recupera parola (sau aveti alte probleme), scrieti-ne la pagina de contact. Situl vechi se gaseste la adresa old.ad-astra.ro

Facebook

193nm resist deprotection study from outgassing measurements by TD-GCMS/FID

Domenii publicaţii > Stiinte ingineresti + Tipuri publicaţii > Articol în volumul unei conferinţe

Autori: Raluca Tiron, Samir Derrough, Hervé Fontaine, Sylviane Cetre, Damien Perret, James W. Thackeray, Patrick Paniez

Editorial: Proc. SPIE, 7545, p.75450G , 2010.

Rezumat:

Cuvinte cheie: 193 nm lithography, outgazing, TD-GCMS, resist deprotection

URL: http://dx.doi.org/10.1117/12.863150