Inscriere cercetatori

Site nou !

Daca nu va puteti recupera parola (sau aveti alte probleme), scrieti-ne la pagina de contact. Situl vechi se gaseste la adresa old.ad-astra.ro

Facebook

Continuous evolution of lithographic films through process steps: an example with 193 chemically amplified resists

Domenii publicaţii > Stiinte ingineresti + Tipuri publicaţii > Articol în volumul unei conferinţe

Autori: Samir Derrough, Raluca Tiron, and Claire Sourd, Damien Perret, James W. Thackeray, Patrick Paniez

Editorial: Proc. SPIE, 7639, p.763937, 2010.

Rezumat:

Cuvinte cheie: 193 nm lithography, resist deprotection

URL: http://dx.doi.org/10.1117/12.846087