Inscriere cercetatori

Site nou !

Daca nu va puteti recupera parola (sau aveti alte probleme), scrieti-ne la pagina de contact. Situl vechi se gaseste la adresa old.ad-astra.ro

Facebook

Controlled growth of rutile TiO2 by atomic layer deposition on oxidized ruthenium

Domenii publicaţii > Chimie + Tipuri publicaţii > Articol în revistã ştiinţificã

Autori: Mihaela Popovici, J. Swerts, K. Tomida, D. Radisic, M.-S. Kim, B. Kaczer, O. Richard, H. Bender, A. Delabie, A. Moussa, C. Vrancken, K. Opsomer, A. Franquet, M. A. Pawlak, M. Schaekers, L. Altimime, S. Van Elshocht, J. A. Kittl

Editorial: Phys. Status Solidi RRL , 5, p.19-21, 2011.

Rezumat:

Cuvinte cheie: atomic layer deposition