Inscriere cercetatori

Daca aveti cont Ad Astra si de Facebook, intrati pe pagina de profil pentru a da dreptul sa va logati pe site doar cu acest buton.

Site nou !

Daca nu va puteti recupera parola (sau aveti alte probleme), scrieti-ne la pagina de contact. Situl vechi se gaseste la adresa old.ad-astra.ro

Facebook

High-k Dielectrics and Metal Gates for Future Generation Memory Devices

Domenii publicaţii > Stiinte ingineresti + Tipuri publicaţii > Articol în revistã ştiinţificã

Autori: J.A. Kittl, K. Opsomer, Mihaela Popovici, N. Menou, B. Kaczer, X.P. Wang, C. Adelmann, M.A. Pawlak, K. Tomida, A. Rothschild, B. Govoreanu, R. Degraeve, M. Schaekers, M. Zahid, A. Delabie, J. Meersschaut, W. Polspoel, S. Clima, G. Pourtois, W. Kna

Editorial: Microelectronic Engineering, 86 (7-9), p.1789-1795 , 2009.

Rezumat:

Cuvinte cheie: high-k dielectrics, metal gates