Scopul nostru este sprijinirea şi promovarea cercetării ştiinţifice şi facilitarea comunicării între cercetătorii români din întreaga lume.
Domenii publicaţii > Stiinte ingineresti + Tipuri publicaţii > Articol în volumul unei conferinţe
Autori: Raluca Tiron, Samir Derrough, Hervé Fontaine, Sylviane Cetre, Damien Perret, James W. Thackeray, Patrick Paniez
Editorial: Proc. SPIE, 7545, p.75450G , 2010.
Rezumat:
Cuvinte cheie: 193 nm lithography, outgazing, TD-GCMS, resist deprotection